Trimethylolpropane Trimethacrylate CAS 3290-92-4

CAS:3290-92-4

Formula Molekul:C18H26O6

Berat Molekul:338.4

EINECS:221-950-4

sinonim:TMPTA; atm11; blemmerptt; chemlink30; chemlink3080; hi-crossm; lightestertmp; asid metakrilika,1,1,1-trihidroksimetilpropanetriester; monocizertd1500

Tinggalkan Mesej Anda

Butiran Produk

Muat turun

Tag Produk

Apakah CAS 3290-92-4 Trimethylolpropane trimethacrylate?

Trimethylolpropane triacrylate (TMPTA) ialah monomer trifungsi tipikal dengan kelikatan yang lebih tinggi daripada monomer monofungsi dan dwifungsi. Walau bagaimanapun, berbanding dengan monomer pelbagai fungsi, ia mempunyai kelikatan yang lebih rendah dan keterlarutan yang baik. Monomer ini boleh memberikan kelajuan pengawetan yang tinggi dan ketumpatan silang silang yang tinggi, membentuk filem pengawetan dengan rintangan pelarut yang sangat baik, rintangan calar keras dan kerapuhan. Harganya agak rendah, dan walaupun ia mempunyai sedikit kerengsaan pada kulit, ia masih merupakan monomer pelbagai fungsi yang paling biasa digunakan.

Spesifikasi

ITEM	STANDARD
Nombor warna (APHA)	60
Anilai cid(mg KOH/g)	0.2
KelikatanBerat	1.09-1.12
Agen Pempolimeran	100-3000

Permohonan

1.TMPTMA boleh digunakan sebagai bantuan penyambung silang untuk penyambung silang peroksida, sesuai untuk pengadunan getah cis-1,4-polibutadiena, monomer etilena propilena diena, monomer etilena propilena diena, getah isoprena, getah butil dan nitril.

2. Agen pemvulkanan: Apabila menggunakan peroksida untuk pemvulkanan getah sintetik, TMPTMA boleh meningkatkan rintangan kakisan, rintangan penuaan dan kekerasan. Rintangan haba: TMPTMA mempunyai kesan pemplastikan semasa pencampuran, dan kesan pengerasan asalnya semasa pemvulkanan boleh digunakan untuk NBR, DM, dan getah akrilik.

3. Agen pemautan silang: TMPTMA boleh mengurangkan dos sinaran, memendekkan masa sinaran, meningkatkan ketumpatan pautan silang, dan mempunyai ciri-ciri seperti ketepatan rendah, tahap pautan silang tinggi, tekanan wap rendah, dan kelajuan pengawetan yang cepat. Boleh digunakan untuk pengawetan foto dakwat dan bahan fotopolimer.